利用AGC從研磨粉料到分散漿一站式生產的優勢,作為半導體多層材料結構核心技術之一,針對以多晶矽及二氧化矽為主的各種矽層或是金屬線路層相關的半導體前後製程高平坦研磨及材料選擇性研磨速率控制,我們提供完善的研磨液材料及CMP製程解決方案。
CES-300 Series/330F Series
・Slurry for STI Applications
・Slurry for ILD Applications
Ceria slurry for STI/ILD Applications
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