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利用AGC從研磨粉料到分散漿一站式生產的優勢,作為半導體多層材料結構核心技術之一,針對以多晶矽及二氧化矽為主的各種矽層或是金屬線路層相關的半導體前後製程高平坦研磨及材料選擇性研磨速率控制,我們提供完善的研磨液材料及CMP製程解決方案。

  • 研磨粉設計、製造
  • 豐富的玻璃研磨經驗、技術
  • 各種化學品的設計、製造、分析技術
  • 研磨性能驗證技術
  • 半導體前製程
  • 半導體後製程
  • 研磨對象: 氧化膜(SiO2)、多晶矽膜、氮化矽膜、各種金屬及樹脂

 

 

CES-300 Series/330F Series

・Slurry for STI Applications

・Slurry for ILD Applications

 

Ceria slurry for STI/ILD Applications

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